光學(xué)元件拋光不均勻檢測(cè)用光源介紹

發(fā)布日期：2022-05-09      瀏覽次數(shù)：970

光學(xué)元件拋光不均勻檢測(cè)用光源介紹

高亮度鹵素光源裝置是用于宏觀觀察的照明裝置，用于檢測(cè)終成品表面上的各種缺陷，如異物、劃痕、拋光不均勻、霧度、滑移等，是加工過(guò)程中勞動(dòng)強(qiáng)度的一種。半導(dǎo)體晶片和液晶基板的加工。

概述

　　1. 樣品表面可照射到 400,000 Lx 以上。

　　2、由于采用鹵素?zé)糇鳛楣庠矗珳馗?，光照不均勻少，光?/span>
　　　　非常穩(wěn)定銳利。

　　3、采用冷鏡，熱量的影響極小
　　　　，僅為傳統(tǒng)鋁鏡的1/3。

　　4. 兩段式切換機(jī)構(gòu)，一
　　　　鍵切換強(qiáng)光觀察和弱光觀察。
　　　　YP-150I ? ? ? 照度范圍 φ30
　　　　YP-250I ? ? ? 照度范圍 φ60
　　　?。╕P-250I 可以從螺旋槳風(fēng)扇型和管道風(fēng)扇型中選擇。）